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                真空〗等离子清洗机处理半导体线框的重要性及优势
                真空等离子清洗机处理半导体线框的重要性及优势
                2024-02-23
                半导体线框在制造过程中会接触到各种化学物质和々微粒,如光刻胶、金属离子、尘埃等。这些污染物不仅影响线框本身的性能,还可能在后续制造过程▆中污染晶片,导致产品质量◣下降。
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                在线式真空等ㄨ离子清洗机的工作原理
                在线式真空等离子清洗机的工作原理
                2024-02-01
                在线式真空等离子清洗机的工作原理主要基于等离子体的物理特性。在真空环境下←,通过引入特定的气体,如氩气、氧气〇或氢气等,并施加高电压,使得气体发生电离→,形成等离子体。
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                大气常压宽幅等离子¤清洗机的应用领域
                大气常压宽幅等离子清洗机的应用领域
                2024-02-01
                常压(大气)宽幅等离子清洗机的应用领域电▲子行业:在电子行业中,大气常压宽幅等离子♀清洗机可用于PCB板、LED芯片、电容电阻等材料的表面处理,提高元器件的可靠性和稳定性。
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                大气常压宽♀幅等离子清洗机的技术特点
                大气常压◥宽幅等离子清洗机的技术特点
                2024-01-31
                大气常压宽幅等离子清洗机的技术特点常压环境下工作:与传统∮的真空等离子清洗机相比,大气常压宽幅等离子清洗机无需抽真空,可在常压环境下进行ㄨ操作,大大简化了设备结构和操作∮流程。
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                等离子设备中什么是等离子体发光?
                等离子设备中什么是等离子体发光?
                2023-08-11
                等离子体一般是在高压或高№温的气体中产生,当等离子设备中的等离子体里面的粒子能量达到一⊙定程度后就会发光,此时电压或温度一般较高。也可以说等离子体╱是在真空状态下产生,激发等离子体一般可以是直流、射频、微波
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                等离子清洗机在半导体※晶圆清洗工艺@ 上的应用
                等离子』清洗机在半导体晶圆清洗工艺上的应用
                2023-06-08
                文章出自公众号:半导体湿化⌒学工艺与设备随着半导体技术的不断▽发展,对工艺技术的要求越来越高,特别是对半㊣ 导体圆片的表面质量要求越来越≡严,其主要原因是圆片表面的颗々粒和金属杂质沾污会严重影响器件的质★量和成品率
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                等离子清洗如▲何解决医疗器械表面的难题?
                等离子清洗如何解决医疗器械表面的难题?
                2023-05-22
                等离子表面处理机作为一种经常出现▂在工业生产领域的机器,在各种生产过程中通常起着重要的作用々,但等离子表面处理机在需要高精度医疗设备和医疗机械的制造中也起着重要的作用。众所周知,在加工医疗机械产品时,我们
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                等离子清洗的】6点优势
                等离子清洗的6点优势
                2022-12-21
                玻璃面板,常规清洗方法是先用清洁剂擦洗,再用酸、碱、有机溶剂超声波清洗,工序复杂,耗时长,而且↙污染环境。如何借助经济且环保的科技技术,清洗活化〗表面,提升︼亲水性呢?今天我们就来说说,如何在低温等离子体的
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                等离子√体物理及其材料处理
                等离子体物理及其材料处理
                2022-10-17
                文章出自:物理学报气体放电产生的等离子体是集成电路制备不可或缺的关◢键技术,利用等离子体中活性粒子赋予的独特的物理和化学特性,可为超大规模集成电路制备提供具有定向性、选择性和纳米级精细性的绿色ξ先进加工技
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                等离子清洗【在医疗产品◣上的应用
                等离子清洗在医疗产品上的应用
                2022-10-17
                等离子体清洗的机理等离子体是部分电离的气体,是物质常见的固体、液体、气态Ψ以外的第四态。等离子体由电子、离子、自由基、光子↘以及其他中性粒子组成。由于等离子体中的电子、离子和自由基等活性粒子的存在,其本身
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                等离子清洗机在№半导体晶圆清洗工艺上的应用
                等离子清洗机在半导体晶圆清洗工艺上的应用
                2020-10-10
                文章出自公众号:半导体湿化学工艺与设备随着半导体技术的不断发展,对工艺技术的要求越来越高,特别是对半导体圆片的表面质量要求越来越Ψ严,其主要原因是圆片表面的颗粒和金属杂质沾污会严重影响器件的质量和成品率
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