半导体线框在制造过程中︾会接触到各种化学物质和微粒，如光刻胶、金属离子、尘埃等。这些污染物不仅影响线框本身的性能，还可能在后续制造过程中●污染晶片，导致产品质量下降。传统⊙的清洗方法往往难以彻底去除这些污染物，而真空等离子清洗机则以其独特的优势，为半导体线框清洗带来了新的解≡决方案。
真空等离子清洗机的优势
高清洗效率：真空等离╳子清洗机可以在短时间内彻底去除线框表面的污染物，大大提高了生产效率。
环保无污★染：相比传统的化学清洗〓方法，真空等】离子清洗无需使用化学试剂，减少了废水排放和环境污染。
清洗效果均匀：等离子体能够均匀覆盖线框表面，保证清洗效果的＠一致性。
对□ 线框损伤小：真空等离◥子清洗过程中，不会对线框材料造成损伤，保证了线框的使用寿命。
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